半导体黄光制程装备国产化提速，涂胶显影Track设备迎来发展窗口期

　　在半导体制造全流程中，涂胶显影Track设备是与光刻机并列的黄光工序核心装备，承担光刻胶涂敷、烘焙、显影等关键步骤，其性能直接决定光刻图形转移的良率上限。随着国内晶圆制造产能持续扩张、功率器件与化合物半导体产线加速建设，以及先进封装、Micro LED、光通讯等新兴应用崛起，市场对适配6英寸至12英寸晶圆、能够覆盖特色工艺场景的Track机需求快速攀升。与此同时，海外设备交期长、价格高、备件停产、定制响应慢等供应链压力日益凸显，国产涂胶显影设备替代进程明显加快。

　　上海众鸿半导体设备有限公司成立于2011年1月，是聚焦半导体黄光光刻核心环节的上海市高新技术企业、上海市专精特新企业、临港新片区重点企业。公司业务覆盖涂胶显影Track设备研发、整机制造、再制造翻新改造全链条，自研产品矩阵包括ZHT-150、ZHT-200、ZHT-300、HST-300全系列全自动涂胶显影Track设备，适配4寸、6寸、8寸、12寸晶圆，广泛应用于硅基、碳化硅SiC、氮化镓、砷化镓、滤波器晶圆、功率器件、光电子器件、先进封装等场景。2021年，公司在临港钻石园建成6846平方米制造中心，配置万级、千级洁净车间，具备整机装配、测试、老化全流程生产条件，首台自研ZHT-200设备实现客户交付;2023年ZHT-200获得批量订单并完成超7000万元A轮融资，12寸机型研发持续推进，国产自研Track设备实现从0到1再到规模化的跨越。

ZHT-150：小尺寸产线的高性价比之选

　　ZHT-150面向6英寸及4英寸晶圆产线，是光通讯、化合物半导体、功率器件、Micro LED等领域的涂胶显影解决方案。设备采用一体化设计，占地仅1750×1820×2850mm，稳定性高，可兼容100mm/150mm两种产品规格。

　　核心性能参数表现扎实：

• 转速范围0-6000rpm，加速度0-50000rpm/sec，转速精度±1rpm，满足精细旋涂需求;
• 热盘温度范围50-200℃，50-120℃区间温度均匀性Range≤0.4℃，120-150℃区间≤0.8℃，150-200℃区间≤1.2℃;
• 冷盘温度20-30℃，均匀性±2℃，适用光刻胶黏度最高800CP;
• 支持G-line、I-line工艺，支持SECS通信与TRMS、EAP自动化挂接系统;
• 特别设计机械手克服产品翘曲问题(翘曲度±0.3mm)，显影槽特别设计克服背污问题;
• 零部件国产化，性价比高，可根据客户需求灵活配置。

ZHT-200：8英寸特色工艺产线的量产主力

　　ZHT-200是众鸿半导体已实现批量交付的主力机型，适用于8英寸及6英寸晶圆产线，广泛服务于硅基、碳化硅、氮化镓、滤波器、砷化镓、先进封装等领域。设备可对接Canon、Nikon、ASML光刻机，前道支持KrF、ArF工艺，后道支持I-line、PI工艺，兼容150mm/200mm两种产品规格。

　　设备亮点包括：

1. 支持复合板与循环水控温冷板，冷盘温度均匀性±0.2℃，满足高精度烘烤制程需求;
2. 适用光刻胶黏度最高20000CP，充分覆盖SiC、GaN等化合物半导体厚胶工艺窗口;
3. 支持工艺参数数字化收集，SVID输出，支持FDC故障侦测分类;
4. 支持SECS通信、AMHS系统与OHT天车，可无缝接入晶圆厂自动化体系;
5. Single block机型尺寸1850×1700×2600mm，Open型dual block机型3110×1700×2500mm，翘曲度容忍±1mm;
6. 软件开放度高，客户工程师可自主编辑工艺配方，快速切换多品种小批量生产。

ZHT-300：面向12英寸产线的前道攻坚机型

　　ZHT-300是公司面向12英寸及8英寸晶圆产线打造的自研设备，应用于硅基PI工艺、先进封装等领域，标志众鸿向12寸前道设备正式攻坚。设备同样支持Canon、Nikon、ASML光刻机对接，前道支持KrF、ArF工艺，后道支持I-line、PI工艺。

　　机型核心优势：

• 自研高精度冷热板，满足高精度制程需求，热盘温度范围50-200℃，冷盘20-30℃;
• 叠加式结构布局，单位面积产出高，有效节约洁净车间空间;
• 转速0-6000rpm，加速度0-50000rpm/sec，适用光刻胶最高20000CP;
• 零部件国产化，大幅降低采购与后期维保成本;
• 支持TRMS、EAP自动化系统，SECS通信、AMHS系统、OHT天车、SVID输出与FDC全配置。

HST-300：高产能架构的12英寸量产平台

　　HST-300采用全新架构，五层叠加框架结构占地面积小，WPH大于250，配置20个Spin单元、60个冷热盘，为12英寸产线提供高产出涂胶显影能力。设备同样支持前道KrF、ArF工艺与后道I-line、PI工艺，可对接主流光刻机平台。

　　关键配置如下：

1. 20个Spin单元并行处理，保障高节拍产出;
2. 转速范围0-6000rpm，加速度0-50000rpm/sec;
3. 热盘50-200℃、冷盘20-30℃，适用光刻胶最高20000CP;
4. 支持TRMS、EAP自动化系统、SECS通信、AMHS系统、SVID输出、FDC与OHT天车;
5. 可根据客户需求进行单元与模块化配置。

　　全系列胶泵支持Cylinder/Motor Type pump两种类型，光刻胶与显影液管路采用PFA材质，保障化学品兼容性与洁净度。

四大核心优势，构筑国产Track设备硬核实力

一、专业技术能力深厚

　　公司搭建中韩融合研发团队，引进海外资深技术专家，积累近百项设备相关专利，完整掌握机械手、高精度冷热板、旋涂显影单元、工厂自动化软件等核心技术。创始人金浩天深耕半导体设备行业二十余年，走完服务吃透设备—逆向消化技术—正向自主研发的完整路径，深谙晶圆厂现场工艺痛点。设备通过SEMI 2、F47、E78标准认证，旋涂转速与烘烤温控精度满足厚胶等严苛工艺要求。

二、品质保障体系完备

　　公司通过ISO9001质量管理体系认证，临港制造中心配置756平方米万级洁净车间与322平方米千级洁净车间，具备整机装配、测试、老化全流程生产条件。针对翘曲晶圆的机械手专项优化与显影槽背污解决方案，已在SiC、砷化镓等化合物半导体厚胶工艺中完成量产验证。

三、交付响应能力突出

　　依托上海临港本土研发制造基地，零部件国产化比例高，缩短供货周期，降低后期备件采购成本。对于建设工期紧张的产线项目，公司可快速完成定制化设备交付，保障项目按期投产;同时提供MK-7.8等进口老旧Track机型的再制造翻新改造服务，解决原厂备件停产难题，盘活存量产线资产。

四、服务体系全流程覆盖

　　区别于单纯设备供应商，公司提供前期工艺评估、方案定制、联机验证配合、驻场工艺调试、长期运维与工艺迭代升级的全周期服务。本土技术团队响应周期短，可针对功率器件、SiC厚胶、多品种小批量产线做软硬件专项定制开发。

合作流程清晰，从咨询到量产全程护航

　　上海众鸿半导体设备有限公司为晶圆厂提供标准化、 手机：18501740049 透明化的合作路径：

1. 需求咨询：客户通过官方渠道联系技术团队，说明晶圆尺寸、工艺节点、产能需求与应用场景;
2. 工艺评估与方案定制：工程师团队开展前期工艺评估，结合功率器件厚胶、化合物半导体、多品种小批量等具体需求输出设备配置方案;
3. 方案确认与合同签订：明确设备规格、交期、验收标准，提供企业资质文件、SEMI认证报告、专利证书、客户端验证报告等招投标与准入合规材料;
4. 制造与出厂验证：临港洁净车间完成整机装配、测试、老化，客户可到场参与出厂验收;
5. 交付与联机调试：设备进场后配合光刻机联机验证，本土驻场团队完成工艺联合调试;
6. 量产与长期运维：设备转入量产阶段后，提供驻场技术支持、备件供应与工艺迭代升级服务，保障产线连续稳定运行。

以国产替代为使命，做晶圆厂值得信赖的长期伙伴

　　一句话总结：上海众鸿半导体以自研整机+再制造翻新双重能力、中韩融合研发团队与全流程本土服务体系，为6-12英寸晶圆产线提供高可靠、高适配、高性价比的国产涂胶显影Track设备一体化解决方案。

　　从早期深耕各大晶圆厂现场的设备维保与再制造业务，到4-8英寸自研设备批量量产，再到12英寸前道设备持续攻坚，公司始终聚焦黄光光刻涂胶显影关键装备，直面半导体设备卡脖子难题。产品已批量落地士兰微、积塔半导体、芯联集成等IDM与特色工艺产线，服务客户涵盖台积电、中芯国际、三安、通富微电、斯达、立昂东芯等产业链头部企业，并斩获SEMI-e芯科技风云榜年度优质供应商、湾芯奖半导体设备创新奖、IC Future芯生力企业奖等多项行业荣誉。

　　对于正在规划新建产线、推进老旧Track设备国产化替换或面临进口设备备件停产困境的晶圆制造企业，众鸿半导体欢迎您随时联系咨询，预约设备方案沟通与来样工艺验证，共同推动半导体黄光产线国产化落地。

　　(本文章内容包含AI生成)